硅片超声波清洗机清洗技术在实验室的应用

对于一般要求不高的低档磁性资料，以往采用的硅片超声波清洗机前处置工艺为：碱性脱脂—水洗—酸洗（漂白、中和）水洗—外表活化—电镀。这种工艺过程虽简单，但它对脱脂剂的要求较高，需要用钕—铁—硼专用去油脱脂剂，这种去油脱脂剂的配方复杂，需要的原料种类多，用户配制过程非常麻烦。而且一旦配比不当，就会失效，实用性较差。

实验室设备在使用时免不了被尘埃、污垢吸附和污染，设备的维护上肯定离不开清洗工作；而库房中的装备也需定期清洗保养，这同样也能发挥超声波清洗这一无可比拟的方式。具体超声清洗所涉及的应用范围大致上可分为以下几个方面：

１、生化仪器：生化仪器容易受到尘埃、油脂、油垢、研磨粉、锈、氧化膜的污染，用人工清洗劳动强度大、时间长，而采用超声清洗就可以很好解决以上问题。

２、各种电子设备：电子设备长时间使用后，很容易在集成块的连脚间、元器件出脚间和印制电路板上吸附尘埃，而一些接插连件上，也容易被油污、尘埃污染，或是形成一层氧化膜。这些情况对电子设备的正常使用肯定会留下较大的隐性故障，而导致电子设备的损坏。硅片超声波清洗机则可简洁、方便地清洗掉这些污染，以保证设备的完好使用。

３、机械设备：机械设备的范围很广，如数控机床所用的传动设备以及各种类型的零部件等，这些设备或是零部件如果被尘垢、油脂、油垢、研磨粉、锈、氧化膜所污染，光靠手工清洗肯定不可能清洗干净，而超声波清洗可以说是无孔不入，可以把每一个微小的孔、缝隙都能彻底清洗干净。

４、各种加工件的表面去污处理。

５、医用器具的清洗，药剂的均匀混合。文章来源：http://www.hncsdq.cn

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